В России будет создан литограф для производства чипов с 7 нм топологией
Нижегородский институт прикладной физики Российской академии наук разрабатывает первую отечественную литографическую печатную машину, способную производить чипы с использованием топологии 7 нм.
Устройство может начать полноценную работу в 2028 году.
Институт прикладной физики (ИПФ РАН) Российской академии наук в Нижнем Новгороде разрабатывает первое в России литографическое устройство для производства сверхмалой наноэлектроники.
Об этом сообщается на сайте "Стратегия развития Нижегородской области".
В настоящее время ученые из Российской академии наук создали первый демонстрационный образец устройства.
В ходе этого процесса установки на подложке было получено независимое изображение с разрешением до 7 нм.
Сейчас "Микрон" является единственным контрактным поставщиком российских полупроводников, способным производить относительно современные чипы.
Следите за самым важным и интересным в Telegram-каналеТатмедиа
Оставляйте реакции
